PVD真空电镀原理及电镀层脱落的原因。

PVD真空电镀原理及电镀层脱落的原因。

PVD真空电镀主要包括：真空蒸发电镀、溅射电镀和离子电镀。在真空条件下，各种金属和非金属薄膜通过蒸馏或溅射堆积在塑料部件表面，一般用于比较产品的功能涂层，如内部屏蔽层。塑料制品有两种常见的电镀工艺：水电镀和真空离子电镀。

PVD真空电镀的一般做法是先喷一层底漆，然后再进行电镀。由于材料为塑料部件，注塑时会残留气泡和有机气体，放置时会吸入空气中的水分。另外，由于塑料表面不平整，直接电镀的工件表面不润滑，光泽低，金属感差，会出现气泡、水泡等不良情况。未来喷一层底漆会形成润滑平整的表面，消除塑料本身的气泡和水泡，展现电镀的作用。PVD真空电镀应用广泛，如ABS材料、ABS+PC材料、PC材料产品等。由于其工艺流程混乱、环境和设备要求高，单价比水电镀贵。

PVD真空电镀是专业人士的总称，属于一种电镀技术。它环保高效，解决了表面处理中的许多问题。PVD真空电镀处理剂是一种特殊的附着力处理剂，可以提高涂层与基材之间的附着力，处理涂层，无法通过测试。PVD真空电镀是一种绿色环保技术，技术发展迅速。